11月6日消息，近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示，该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。
目前，极紫外光刻机（EUV）的唯一供应商就是ASML，EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要，但每台机器的售价高达数亿美元，只有少数公司才有能力购买。
为此，从2017年开始，佳能就与铠侠，以及半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）合作，研发基于纳米压印（NIL）的量产技术，在不使用EUV的情况下将制程技术推进到5nm。
佳能表示，这套生产设备的工作原理和ASML光刻机不同，并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。
铠侠曾经表示，由于NIL技术的微影制程较为单纯，因此相比于EUV可以大幅减少耗能，并降低设备成本。
御手洗富士夫还表示：我不认为纳米压印技术会取代EUV，但我相信这将创造新的机会和需求，而且我们已经收到了很多客户的咨询。
同时其还表示，最终的定价目前还没有敲定，但希望这是一个完全的惊喜。
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